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本发明公开了一种激光诱导化学气相刻蚀YIG薄膜的方法，该方法包括：在YIG膜基片上依次镀铜膜、金膜作为掩膜层，旋涂光刻胶后进行曝光、显影得到预刻图案，再使用激光诱导HCl、HF、Ar混合气体化学腐蚀YIG膜刻蚀窗口，最后依次剥离光刻胶、铜膜、金膜，得到具有预设图形的YIG膜；本发明通过使用铜膜、金膜作为掩膜层，将激光物理刻蚀和HCl、HF混合气体化学刻蚀有机结合进行干法刻蚀YIG膜，有效保护了非刻蚀窗口区，提高了刻蚀精度及速度。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115161776 A
(43)申请公布日 2022.10.11
(21)申请号 202210616876.3 C23C 14/35 (2006.01)
(22)申请日 2022.06.
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