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本发明公开了一种异质结场效应晶体管及其制备方法,涉及半导体功率器件的技术领域。本发明的异质结场效应晶体管包括自下而上依次设置的衬底层、Ga2O3缓冲层、AlGaO势垒层和栅电极,Ga2O3缓冲层之上设有源极区域和漏极区域,且源极区域和漏极区域分别位于Ga2O3缓冲层的两端,栅电极包括第一金属和第二金属,栅电极位于源极电极和漏极电极之间,第一金属位于源极电极一侧,第二金属位于漏极电极一侧,第一金属的功函数比第二金属高。本发明通过调节β‑(AlxGa1‑x)2O3/Ga2O3HFETs沟道中的电场分
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117012818 A
(43)申请公布日 2023.11.07
(21)申请号 202310880924.4
(22)申请日 2023.07.18
(71)申请人 西安电子科技大学杭州研究院
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