一种深紫外MOCVD设备反应室.pdfVIP

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2023-11-11 发布于四川
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一种深紫外MOCVD设备反应室.pdf

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本发明属于MOCVD设备反应室技术领域，具体涉及一种深紫外MOCVD设备反应室，包括顶盘、真空腔体、法兰底板、气体均匀性在线监测仪、第一进气口、第二进气口、混合空腔，所述顶盘真空腔体设置在顶盘与法兰底板之间，所述顶盘的底部设置有混合空腔，所述混合空腔设置在真空腔体内，所述气体均匀性在线监测仪穿过顶盘伸入混合空腔内，所述第一进气口、第二进气口分别与混合空腔相连通。本发明重新设计了MOCVD设备反应室中的顶盘组件，使工艺气体在小空间内的混合更为均匀，从而提升工艺气体在整个混合空腔中的混合均匀性。并且

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117026204 A (43)申请公布日 2023.11.10 (21)申请号 202310846427.2 (22)申请日 2023.07.11 (71)申请人山西中科潞安紫外光电科技有限公