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本申请提供了一种自适应负载研磨抛光设备,涉及研磨抛光设备领域。其包括底座、夹具和打磨单元,所述打磨单元设于基座上,所述基座与所述底座之间设有压力传感器,所述底座的底部两侧均设有一个电缸;所述夹具夹持工件并位于打磨单元的上方,所述电缸推动底座向上运动并带动打磨单元与工件接触,所述打磨单元在打磨电机的驱动下对工件进行打磨,所述压力传感器采集所述基座传递的压力数值并通过信号线传递至控制器,控制器控制所述电缸对底座的驱动量。本申请具有能够在研磨抛光的过程中对磨削量进行自适应性调整的效果。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117020931 A
(43)申请公布日 2023.11.10
(21)申请号 202311174474.3 B24B 55/08 (2006.01)
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