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一种用于产生具有规定特性的空间双螺旋焦场的方法.pdfVIP

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  • 2023-11-11 发布于四川
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一种用于产生具有规定特性的空间双螺旋焦场的方法.pdf

    本发明提供了一种用于产生具有规定特性的空间双螺旋焦场的方法，包括4π聚焦系统，所述4π聚焦系统是由两个完全相同、左右对称且共轴放置的高数值孔径物镜组成；将由磁单元组成的虚拟螺旋天线放置在4π聚焦系统的焦区，并计算所构成的虚拟螺旋天线产生的辐射场，辐射场通过左右对称的两个高数值孔径物镜完全收集并准直到光瞳面上，通过反转求解所述虚拟螺旋天线产生的辐射场，获得光瞳面上的入射场分布；实现所述入射场并作为整个4π聚焦系统的入射光束，经透镜反向传播且在4π聚焦系统焦区汇聚，形成所需的双螺旋焦场；应用本技术方

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117031767 A (43)申请公布日 2023.11.10 (21)申请号 202311049656.8 (22)申请日 2023.08.21 (71)申请人 泉州师范学院 地址 362000

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