一种等离子体清洗设备.pdfVIP

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2023-11-11 发布于四川
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本申请涉及一种等离子体清洗设备，包括：真空清洗装置，包括密闭腔体和设于密闭腔体内部的第一轨道组，第一轨道组上设有用于承载片状产品的第一料槽，真空清洗装置用于对第一轨道组上的片状产品进行等离子体清洗；轨道运送装置，包括可活动的第二轨道组和设有第二轨道组上方的夹具，第二轨道组设有用于承载片状产品的第二料槽，第二轨道组在运动后可使第二料槽与第一轨道组的第一料槽相对接，夹具可沿第二轨道组的输送方向运动，夹具用于推动第二料槽内的片状产品移动进入第一料槽中或用于夹取第一料槽中的片状产品抽拉移动进入第二料槽；

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117019771 A (43)申请公布日 2023.11.10 (21)申请号 202311192964.6 (22)申请日 2023.09.15 (71)申请人深圳市嘉铭半导体科技有限公司地址