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本申请提供了一种曝光系统及其测定方法、电子设备、存储介质，其中，通过以下方式对曝光系统进行测定：获取光源与衰减装置的衰减玻璃之间的入射角度值小于第一目标入射角度值时，入射角度值与能量传感器对应采集到的脉冲能量值之间的第一关系曲线；截取第一关系曲线中入射角度值在目标范围内的第二关系曲线，其中，目标范围为第二目标入射角度值至第三目标入射角度值，第二目标入射角度值小于第三目标入射角度值，第三目标入射角度值小于第一目标入射角度值；按照固定间隔对第二关系曲线进行采样，以获取多个采样点；针对每个采样点，确定
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117055303 A
(43)申请公布日 2023.11.14
(21)申请号 202311140776.9
(22)申请日 2023.09.05
(71)申请人 北京半导体专用设备研究所（中国
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