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本发明公开了一种抗反射垂直腔面发射激光器。所述抗反射垂直腔面发射激光器在激光器的出光窗口外表面设置有厚度为四分之一激光器波长的奇数倍的抗反射层，抗反射层由下层的硅基介质层和上层的结晶态ITO层构成，硅基介质层的折射率介于结晶态ITO的折射率与所述出光窗口材料的折射率之间，结晶态ITO层的厚度为5～15nm，所述抗反射层中形成有从上表面朝下的一系列纳米柱/纳米孔，所述纳米柱/纳米孔的直径为50～400nm，所述纳米柱/纳米孔的高度/深度小于等于所述抗反射层厚度且大于等于所述抗反射层厚度的三分之
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117060223 A
(43)申请公布日 2023.11.14
(21)申请号 202311189655.3
(22)申请日 2023.09.15
(71)申请人 苏州长瑞光电有限公司
地址 21
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