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本发明提供了一种浸没头清洗装置、浸没式光刻机及清洗方法，包括：安装于光刻机的主体框架上的基座，基座底面贴靠于浸没头表面，基座设有气流通道；气流通道分别与光刻机的高纯度压缩空气供给装置和真空装置连接，气流通道具有位于基座底面的排气口，排气口与气液回收孔连通，高纯度压缩空气供给装置用于向气液回收孔输送高纯度压缩空气，以冲刷气液回收孔上的异物，真空装置用于将异物抽离气液回收孔可高效地将异物清除干净，通过交替使用高纯度压缩空气供给装置和真空装置，以完成对气液回收孔的清洗。本发明利用高纯度压缩空气作为清洗
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117055300 A
(43)申请公布日 2023.11.14
(21)申请号 202311077294.3
(22)申请日 2023.08.24
(71)申请人 上海集成电路装备材料产业创新中
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