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本实用新型公开了一种阵列式磁瓦结构，包括磁瓦组件和设置于磁瓦组件外围的防脱落结构，所述磁瓦组件包括两个以上呈环形阵列式分布的扣件和磁瓦本体，且扣件与磁瓦本体呈ABAB式间隔排列；所述扣件靠近两端的两侧面分别留设有向内凹的凹口，且两个凹口的内壁与磁瓦本体的两端相适配；所述磁瓦组件的整体呈管式结构；所述扣件呈‘S’状结构；所述磁瓦本体为弧形状；所述扣件与磁瓦本体的数量相同；所述防脱落结构由两个结构相同的紧固圈组成，且两个紧固圈分别设置于磁瓦组件靠近首尾两端位置的外围处。本实用新型拆装方便，结构稳定性
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220022425 U
(45)授权公告日 2023.11.14
(21)申请号 202321479148.9
(22)申请日 2023.06.12
(73)专利权人 崔君业
地址 256200 山
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