10%氨氯吡啶酸静电喷雾液剂的研制及助剂对沉积量的影响的中期报告.docxVIP

10%氨氯吡啶酸静电喷雾液剂的研制及助剂对沉积量的影响的中期报告.docx

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10%氨氯吡啶酸静电喷雾液剂的研制及助剂对沉积量的影响的中期报告 摘要: 本研究旨在研制一种10%氨氯吡啶酸静电喷雾液剂,并探究不同助剂对其沉积量的影响。经过前期实验的筛选,最终确定了乳化剂Tween80和助溶剂乙二醇作为稳定剂和助剂进行后续的研究。通过对不同乳化剂浓度、乙二醇浓度、喷雾电压和喷雾距离的优化试验,确定了较为适宜的制备条件:乳化剂浓度为1%,乙二醇浓度为5%,喷雾电压为16 kV,喷雾距离为15 cm。 针对不同助剂对沉积量的影响,本实验从界面活性剂、表面增稠剂和助剂组合三个方面进行研究。结果显示,加入界面活性剂可提高液滴的稳定性和电荷密度,从而提高沉积量;加入表面增稠剂可增加液滴的粘度,使其更易在受体表面附着,从而提高沉积量;助剂组合的使用则需考虑其相容性和协同作用,可通过对不同助剂组合的优化,使沉积量进一步提高。 综上所述,本实验成功研制出一种稳定性较好、沉积量较高的10%氨氯吡啶酸静电喷雾液剂,并初步探究了不同助剂对其性能的影响。后续工作将进一步优化助剂组合,提高液滴的稳定性和粘度,进一步提高沉积量,为该产品的实际应用提供技术支撑。 关键词:氨氯吡啶酸;静电喷雾;液滴沉积;界面活性剂;表面增稠剂;助剂组合 Abstract: This study aims to develop a 10% ammonium chloride pyrithione electrostatic spray liquid and explore the influence of different additives on the deposition. After preliminary experiments, emulsifier Tween80 and cosolvent ethylene glycol were finally selected as stabilizer and additive for subsequent research. Through optimization experiments on emulsifier concentration, ethylene glycol concentration, spray voltage and spray distance, a more suitable preparation condition was determined: emulsifier concentration of 1%, ethylene glycol concentration of 5%, spray voltage of 16 kV, and spray distance of 15 cm. Regarding the influence of different additives on the deposition, this study focused on surfactants, surface thickeners and additive combinations. The results showed that adding surfactants can improve droplet stability and charge density, thereby increasing deposition; adding surface thickeners can increase droplet viscosity, making it easier to attach to the receptor surface, thereby increasing deposition; the use of additive combinations needs to consider its compatibility and synergistic effects, which can further improve deposition by optimizing different additive combinations. In summary, this study successfully developed a stable and high-deposition 10% ammonium chloride pyrithione electrostatic spray liquid, and preliminarily explored the influence of different additives on its performance. Follow-up work will further optimize the addi

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