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提供一种能够防止基板的被抛光表面的部分抛光不足或过度抛光等抛光不均的发生，实现基板表面的ESFQR等的进一步提高，进行高质量和稳定的多次抛光处理的抛光头和抛光处理装置。所述抛光头包括：头壳体，具有从筒状体的周面上方位置向外部延伸的第一锷部和从该周面下方位置向外部延伸的第二锷部；膜支撑环，其围绕第二锷部的外围的尺寸，其上端部形成有位于第一第二锷部之间的第三锷部；膜，覆盖于该膜支撑环的下端侧开口部，通过贴附于其表面侧的背膜保持晶圆；保持环，其围绕所述基板的外围形状；驱动机构，整体水平旋转头壳体和膜支
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117083150 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202280021212.0 (74)专利代理机构 北京高沃律师事务所 11569
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