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本发明的课题是提供用于形成即使是膜厚为10nm以下等，与以往相比厚度薄的抗蚀剂下层膜也获得没有图案坍塌的良好的抗蚀剂图案的含有硅的抗蚀剂下层膜的、含有硅的下层膜形成用组合物。解决手段是下述含有硅的抗蚀剂下层膜形成用组合物，其含有：[A]聚硅氧烷，上述[A]聚硅氧烷的由凝胶渗透色谱(GPC)分析得到的以聚苯乙烯换算获得的重均分子量为1,800以下，并且，在由凝胶渗透色谱(GPC)分析得到的以聚苯乙烯换算获得的积分分子量分布曲线中分子量超过2,500的比例小于20％；以及[B]溶剂。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117083570 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202280025083.2 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所
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