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本发明属于PDLC膜制备技术领域,具体涉及一种PDLC膜及其制备方法,包括以下步骤:S1、按照第一保护膜层、第一基材层、第一导电层、第一绝缘层、聚合物分散液晶层、第二绝缘层、第二导电层、第二基材层、第二保护膜层的顺序进行连接叠层;S2、在靠近叠层预设切割线的位置处对相应保护膜层进行半切;S3、之后对叠层预设切割线处采用激光切割进行熔融切割。本发明能够在熔融切割的同时实现封边,无需额外封边工艺,特别设置的相应绝缘层能尽可能的避免熔融切割时两个导电层触碰在一起而发生膜片边缘短路的问题,同时所得PDL
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117075378 A
(43)申请公布日 2023.11.17
(21)申请号 202311338174.4
(22)申请日 2023.10.17
(71)申请人 上海隆昇光电新材料有限公司
地址
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