一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置.pdfVIP

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2023-11-18 发布于四川
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一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置.pdf

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本实用新型公开了一种高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，属于高反射陶瓷基板制作设备技术领域。高反射陶瓷基板制作用反应釜装置，包括反应釜和支架组件，反应釜装设在支架组件上，支架组件上设连有电动搅拌机构，电动搅拌机构的搅拌杆纵向穿设在反应釜内，反应釜上设有加料孔，反应釜的上部和下部都设有内嵌转轴的密封件，反应釜的底部装在减振托台件上，减振托台件能在支架组件上进行上下高度的调节或固定。本实用新型解决了现有高反射陶瓷基板带搅拌器的反应釜内易出现搅拌死角，高度不可调，反应釜底部易出现微振磨损的问题。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220027026 U (45)授权公告日 2023.11.17 (21)申请号 202321572071.X (22)申请日 2023.06.20 (73)专利权人浙江新瓷智能科技股份有限公司地