新型晶体生产用磁控溅射镀膜机.pdfVIP

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2023-11-18 发布于四川
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新型晶体生产用磁控溅射镀膜机.pdf

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新型晶体生产用磁控溅射镀膜机，包括真空室、转动结构和安装结构，本实用新型涉及磁控溅射技术领域，所述真空室前端设置有机门，真空室左下端设置有操控箱，真空室左端中部设置有固定箱，固定箱内部设置有惰性气体气罐，且惰性气体气罐与真空室相连通，且固定箱上端设置有真空泵，且真空泵与真空室相连通，真空室右端上侧设置有第一固定板；本装置通过转动结构来带动制作成管状的靶材转动，在镀膜时，使靶材时刻处于旋转状态，可使靶材的消耗均匀，有利于降低材料成本；同时也使镀层的厚度均匀一致；通过安装结构来对一面镀膜完的新型晶体

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220034639 U (45)授权公告日 2023.11.17 (21)申请号 202321456868.3 (22)申请日 2023.06.09 (73)专利权人烟台世晶电子科技有限公司地址