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- 2023-11-22 发布于四川
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本发明涉及一种支架、电化学表面处理系统及控制方法。支架通过将待处理的支架浸入电解液中,并将所述支架接入阳极后,绕所述支架的轴线进行转动,并通电进行表面处理获得。一种支架的电化学表面处理系统包括:电解槽;阳极单元,包括平行设置的主动绝缘转轴和从动阳极柱,所述主动绝缘转轴和从动阳极柱之间具有第一缝隙,且所述第一缝隙的宽度可调,且小于等于待抛光的支架的最大厚度;所述从动阳极柱设置第一测速部件,用于测定从动阳极柱的转速;阴极单元和信号处理和控制单元。本申请提供的支架在绕轴线转动的同时进行电化学抛光,使抛
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 117089914 A
(43)申请公布日 2023.11.21
(21)申请号 202311067330.8
(22)申请日 2023.08.23
(71)申请人 艾柯医疗器械(北京)股份有限公司
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