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一种超高粘度光刻胶旋涂方法.pdfVIP

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  • 2023-11-22 发布于四川
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一种超高粘度光刻胶旋涂方法.pdf

    本发明提供一种超高粘度光刻胶旋涂方法，涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种超高粘度光刻胶旋涂方法。真空吸盘带动所述晶圆旋转；滴胶装置移动至晶圆的中心处进行滴胶，接着所述滴胶装置沿着所述晶圆的中心朝所述晶圆的径向移动；使光刻胶涂满整个晶圆时再次滴胶。本发明从晶圆中心开始的滴胶方法，使得高粘度光刻胶的涂敷更加均匀；且可以节省光刻胶用量。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117092887 A (43)申请公布日 2023.11.21 (21)申请号 202311066729.4 (22)申请日 2023.08.23 (71)申请人 沈阳芯达科技有限公司 地址 11

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