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- 2023-11-25 发布于重庆
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丽水undefined项目可行性研究报告
丽水undefined项目
可行性研究报告
xx有限公司
丽水undefined项目可行性研究报告 全文共1页,当前为第1页。
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报告说明
在逻辑集成电路制造环节,中微公司12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户65nm到5nm等先进的芯片生产线上;同时已开发出小于5nm刻蚀设备用于若干关键步骤的加工,并已获得行业领先客户的批量订单。在3DNAND芯片制造环节,中微公司CCP设备可应用于64层和128层等成熟工艺的量产,正在开发的新一代产品能涵盖128层及以上关键刻蚀应用以及相
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