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一种降低掩膜残留物影响的方法及装置.pdfVIP

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  • 2023-11-25 发布于四川
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一种降低掩膜残留物影响的方法及装置.pdf

    本发明公开了一种降低掩膜残留物影响的方法及装置，对掩膜施加静电，通过周期性的变换静电电极的极性，最终使掩膜内带电残留物分布在远离掩膜图案的位置处。本发明利用静电，使带电残留物远离掩膜表面，尤其是远离掩膜图案，利于延长掩膜清洗周期。本发明提供的装置结构简单，安装方便，成本较低。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117111409 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202210528257.9 (22)申请日 2022.05.16 (71)申请人 成都高真科技有限公司 地址 61

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