掩膜关键尺寸的确定方法、装置、设备及存储介质.pdfVIP

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2023-11-25 发布于四川
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掩膜关键尺寸的确定方法、装置、设备及存储介质.pdf

本申请公开了一种掩膜关键尺寸的确定方法、装置、设备及存储介质，涉及半导体制造技术领域。该掩膜关键尺寸的确定方法包括：获取通过掩膜在晶圆的各个晶片上光刻出不同曝光能量的测试图案，确定各个测试图案的第一关键尺寸；根据预设的晶片的关键尺寸窗口以及图案窗口，确定满足关键尺寸窗口和图案窗口且曝光能量最小的目标测试图案；基于各个测试图案的第一关键尺寸和曝光能量确定曝光能量和第一关键尺寸的映射关系；基于目标测试图案的第一关键尺寸、映射关系以及晶片的第三关键尺寸，调整掩膜的第二关键尺寸，以使调整后的第二关键尺寸

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117111401 A (43)申请公布日 2023.11.24 (21)申请号 202311375096.5 (22)申请日 2023.10.23 (71)申请人粤芯半导体技术股份有限公司地址

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