物理气相沉积PVD设备.pdfVIP

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  • 2023-11-29 发布于四川
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本实用新型公开一种物理气相沉积PVD设备,涉及材料加工技术领域。所述物理气相沉积PVD设备包括设备主体、转运装置以及夹持装置;所述设备主体形成有用于卷材加工的密闭腔体,所述密闭腔体内设有放置靶材的上料位,以及处理靶材的工作位;所述转运装置设于所述密闭腔体内,所述夹持装置连接所述转运装置,所述夹持装置用于取放靶材,所述转运装置用于带动所述夹持装置在所述密闭腔体内进行水平和/或竖向移动,以将靶材由上料位转运至工作位。本实用新型技术方案可以实现靶材的自动化更换,极大的节省人工,提高上料效率以及安全性。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220099163 U (45)授权公告日 2023.11.28 (21)申请号 202321437601.X (22)申请日 2023.06.06 (73)专利权人 美的集团股份有

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