原创力文档- 1
- 0
- 约1.03万字
- 约 12页
- 2023-11-29 发布于四川
- 举报
本实用新型涉及一种晶片放置浸泡装置，包括壳体、放置架及排液组件，壳体内具有槽体，槽体包括浸泡槽，浸泡槽内用于容纳浸泡溶液，浸泡槽的至少一侧具有溢流槽，槽体设置有多个，多个槽体沿上下方向分布，放置架设置在浸泡槽内，放置架用于放置晶片，排液组件包括排液管，排液管设置在壳体的底部，多个槽体之间相互连通，且多个槽体中位于最下层的槽体与排液管相连通，排液管用于排出浸泡槽和/或溢流槽内的浸泡溶液。本实用新型的装置可使晶片充分浸没于浸泡溶液中，提升了浸泡效果，通过设置排液组件可实现快速排出浸泡溶液，通过设置溢
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 220106446 U
(45)授权公告日 2023.11.28
(21)申请号 202321544681.9
(22)申请日 2023.06.16
(73)专利权人 拓思精工科技（苏州）有限公司
地
文档评论（0）