沉积腔室部件及维护方法、腔室使用方法、沉积设备.pdfVIP

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2023-12-02 发布于四川
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沉积腔室部件及维护方法、腔室使用方法、沉积设备.pdf

本申请公开一种沉积腔室部件及维护方法、腔室使用方法、沉积设备。本申请的原子层沉积腔室部件，在原子层沉积腔室中使用，原子层沉积腔室用于对目标材料进行沉积；原子层沉积腔室部件包括主体以及设置在主体的表面的绝缘层，从而避免原子层沉积腔室内出现放电现象而损伤腔室的部件以及造成腔室内等离子体分布不均匀而使成膜不均匀。其中，绝缘层被配置为对预设波长范围的光的吸收率大于目标材料对预设波长范围的光的吸收率，从而能够支持使用相同预设波长范围的光对原子层沉积腔室部件进行光照处理时，使绝缘层能够熔融或结构破坏，从而让

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117144331 A (43)申请公布日 2023.12.01 (21)申请号 202210563677.0 (22)申请日 2022.05.23 (71)申请人广东聚华印刷显示技术有限公司地址

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