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针对AlN、TiN、Si3N4、SiC等具有各种分子结构的原料粒子,通过能够对原料粒子的整个表面以通用的方法均匀地进行有机修饰,可简单地提供进一步提高了在溶剂中的分散性的有机修饰无机微粒。本发明为有机修饰无机微粒的制备方法。该方法包括在选自无机氮化物、无机碳化物、无机硫化物和不溶性盐中的至少1种以上的原料粒子的表面形成氧化物层、羟基氧化物层和/或氢氧化物层的氧化物层等形成工序;以及将形成有氧化物层、羟基氧化物层和/或氢氧化物层的原料粒子在超临界、亚临界或气相的水系溶剂的反应场中进行有机修饰,得到
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115650184A
(43)申请公布日2023.01.31
(21)申请号202211281170.2
(22)申请日2022.10.19
(30)优先权数据
2022-070422202
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