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本发明能够防止处理装置的部件结露并且抑制低露点气体的消耗量。处理装置包括第一温度测量部、供给管和控制部。第一温度测量部测量在处理装置的第一封闭空间内露出的第一部件的表面温度。供给管向第一封闭空间内供给低露点气体。控制部控制低露点气体的流量。另外，控制部执行第一步骤、第二步骤和第三步骤。在第一步骤中，按低露点气体的流量，确定第一部件的表面位置处的第一封闭空间内的气体的水蒸气密度。在第二步骤中，确定由第一温度测量部测量出的第一部件的表面温度的饱和水蒸气密度。在第三步骤中，基于第一部件的表面位置处的第
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN110364410A
(43)申请公布日
2019.10.22
(21)申请号20191
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