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2023-12-13 发布于四川
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一种立式双面等离子清洗装置.pdf

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本发明公开了一种立式双面等离子清洗装置，属于等离子设备技术领域，一种立式双面等离子清洗装置，包括清洗机主体，清洗机主体包括等离子大腔体和等离子小腔体，等离子小腔体装配在等离子大腔体内，等离子小腔体的内部装配有立式清洗框；立式清洗框的内部开设有清洗腔，清洗腔内装配有载体组件，载体组件包括上载板和下载板；上载板装配在立式清洗框的内部上端，下载板装配在立式清洗框的内部下端，上载板和下载板之间均装配有射频电极板；每相邻的两个射频电极板之间均装配有晶圆托盘组件，晶圆托盘组件内均装配有晶圆主体；该立式双面等

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117219977A

(43)申请公布日2023.12.12

(21)申请号202311486507.8

(22)申请日2023.11.09

(71)申请人青岛天仁微纳科技有限责任公司

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