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本发明公开了一种均匀成膜装置，所述预热转台的外侧设置有升降挡胶罩，所述预热转台的顶部设置有竖直升降装置和横移点胶检测装置，所述竖直升降装置的升降端上设置有密封罩，所述密封罩的内部对应预热转台的顶部设置有转动加热装置；所述升降挡胶罩的内部设置有至少一个排液部与至少一个排气部，所述密封罩上设置有至少一个进气部；本发明能够对基片边缘滴落的胶液进行遮挡收集，避免胶液飞溅浪费，同时能够对基片表面的胶液进行充分旋涂以及均匀加热，进而保证基片表面旋涂形成的胶体薄膜的厚度均匀，同时能够对胶体薄膜的厚度进行实时检
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117206142A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202311186195.9B05C15/00(2006.01)
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