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本申请公开了一种用于喷墨打印的玻璃基板干式清洗系统及其使用方法,该清洗系统包括:机台,机台包括清洗腔室;基板运动组件,基板运动组件设于清洗腔室内,基板运动组件包括X轴运动单元和吸附组件,X轴运动单元带动吸附组件在X轴方向运动,吸附组件用于吸附固定玻璃基板;清洗组件,清洗组件设于清洗腔室内,清洗组件包括十字滑台和清洗件,十字滑台与清洗件驱动连接,以带动清洗件在Y轴和Z轴方向运动,且清洗件在吸附组件的上方运动。本申请通过逐行清洗玻璃基板,不受玻璃基板尺寸的限制,适用于各种尺寸的玻璃基板的清洗,可确保
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117207681A
(43)申请公布日2023.12.12
(21)申请号202311272521.8
(22)申请日2023.09.27
(71)申请人武汉国创科光电装备有限公司
地址
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