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本实用新型公开了一种动态可调的多级真空结晶器，包括使晶浆流通的级间隔板孔洞，级间隔板孔洞上设有可调节级间隔板孔洞流通面积的多片格栅，格栅调节引起隔板孔洞流通面积变化，从而对晶浆的流速和停留时间产生影响。本实用新型通过调节多级结晶器的隔板孔洞面积，实现多级结晶器的动态可调功能，满足结晶处理量、料液温度、系统真空度等波动，达到晶体粒度、结晶产能、收率的控制要求。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220176091U
(45)授权公告日2023.12.15
(21)申请号202321168222.5
(22)申请日2023.05.16
(73)专利权人南通三圣石墨设备科技股份有限
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