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2023-12-20 发布于四川
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一种衬底的抛光方法.pdf

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本发明公开了一种衬底的抛光方法，包括以下步骤：对边缘完成倒角后的衬底的边缘进行机械抛光，使衬底边缘的表面粗糙度小于10nm；对完成机械抛光的衬底的边缘进行化学机械抛光，化学机械抛光依次包括粗抛步骤和精抛步骤；粗抛步骤包括：使用酸性抛光液对衬底的边缘进行粗抛，使衬底边缘的表面粗糙度小于0.2nm；精抛步骤包括：当衬底为碳化硅衬底时，使用碱性抛光液对衬底的边缘进行精抛，使衬底边缘的表面粗糙度小于0.1nm；当衬底为氮化镓衬底时，使用酸性抛光液对衬底的边缘进行精抛，使衬底边缘的表面粗糙度小于0.1nm

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117245457A

(43)申请公布日2023.12.19

(21)申请号202311461722.2B24B49/00(2012.01)

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