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本发明属于面料加工的技术领域,具体涉及抗紫外易去污的面料的加工方法。本发明所述的抗紫外易去污的面料的加工方法:将纯棉或涤棉面料坯布经过预处理→印花→蒸化→印花水洗→易去污整理→预缩,得到抗紫外易去污的面料;印花工序采用的抗紫外印花浆料;易去污整理工序采用的整理液包括:易去污整理剂TF‑9901B:60~120g/L,余量为水。本发明提供的抗紫外易去污的面料的加工方法,在保证面料手感、质感的同时,印花抗紫外一浴加工,提升面料的防紫外性并叠加易去污性能。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117248382A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311216876.5D06P1/52(2006.01)
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