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本发明公开了一种具有双螺旋点扩散函数的干涉散射成像系统，涉及颗粒的显微成像领域，包括：635nm半导体激光器、第一偏振片、第一四分之一波片、空气物镜、多层介质膜基片、油浸物镜、第二偏振片、第二四分之一波片、成像管镜、成像探测器。首先，由激光器发出的准直光束经过偏振片和四分之一波片后，光束变为圆偏振光束出射，通过空气物镜离焦照射多层介质膜基片上的颗粒。再经过油浸物镜收集以及偏振片和四分之一波片，选择出与入射光束正交圆偏的光束，最后通过成像管镜成像到成像探测器上。本发明显著提升了颗粒成像的对比度，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117250197A
(43)申请公布日2023.12.19
(21)申请号202311503721.X
(22)申请日2023.11.13
(71)申请人中国科学技术大学
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