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原子层沉积方法以及原子层沉积系统.pdfVIP

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  • 2023-12-23 发布于四川
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原子层沉积方法以及原子层沉积系统.pdf

    本申请涉及材料沉积工艺领域，特别是涉及一种原子层沉积方法以及原子层沉积系统。原子层沉积方法包括：确定待沉积金属氧化物层中的金属元素为目标元素；获取各目标元素对应组分比例的目标比例组；根据目标比例组获取第一参考比例组以及与第一参考比例组对应的一阶工艺参数，第一参考比例组为各目标元素对应不同组分比例的若干一阶历史比例组数据中最接近目标比例组的一阶历史比例组；根据目标比例组和第一参考比例组中各目标元素对应的比例差值，确定二阶工艺参数；响应于一阶工艺参数和二阶工艺参数，沉积金属氧化物层，金属氧化物层包含

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117265510A

    (43)申请公布日2023.12.22

    (21)申请号202311577187.7

    (22)申请日2023.11.24

    (71)申请人上海星原驰半导体

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