一种碳化硅晶片抛光液及其制备方法和应用.pdfVIP

一种碳化硅晶片抛光液及其制备方法和应用.pdf

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本发明涉及碳化硅晶片制造领域，公开了一种碳化硅晶片抛光液及其制备方法和应用。该抛光液中含有各自独立保存或者两者以上混合保存的以下组分：功能组分和水，其中，所述功能组分为磨料、六偏磷酸钠、三甘醇、羟乙基纤维素、湿润剂、pH调节剂。该抛光液的抛光去除速率稳定，表面加工品质好，还能适用于不同材质抛光垫。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117264540A

(43)申请公布日2023.12.22

(21)申请号202310985091.8

(22)申请日2023.08.07

(71)申请人浙江兆晶新材料科技有限公司

地址

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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用户编号：5333241143000144

认证主体北京中献电子技术开发有限公司

IP属地四川

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