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本发明公开了一种宽带端射天线阵增益的提升方法,包括在端射阵面上设置介质匹配层;介质匹配层的外轮廓尺寸小于端射阵面的外轮廓尺寸;介质匹配层的相对介电常数为εr,εr=2~10;介质匹配层的厚度为d,d=0.02λh~0.18λh,其中,λh为高频波长;介质匹配层与端射阵面之间的距离为l,l=0.01λh~0.4λh。本发明能够在不改变端射阵面上阵列单元及间距的情况下,通过设置介质匹配层、配置介质匹配层外轮廓尺寸、配置介质匹配层的相对介电常数、配置介质匹配层的厚度和调整介质匹配层与端射阵面之间距离等
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117276915A
(43)申请公布日2023.12.22
(21)申请号202311391980.8
(22)申请日2023.10.25
(71)申请人中国电子科技集团
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