用于铂图案化的牺牲层.pdfVIP

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  • 2023-12-28 发布于四川
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至少一个实施例包括一种在衬底(101)上图案化铂(105B)的方法。粘合剂层(102)沉积在衬底(101)上方,牺牲层(103)沉积在粘合剂层(102)上方,以及图案化的光致抗蚀剂层在牺牲层(103)的上方形成。然后,利用光致抗蚀剂层作为掩埋来图案化牺牲层(103),使得粘合剂层(102)的至少一部分被暴露。随后,图案化的牺牲层(103)的顶部表面和侧壁表面以及粘合剂层(102)的第一部分被铂层(105A)覆盖。最后,牺牲层(103)和覆盖牺牲层(103)的顶部表面和侧壁表面的铂层(105A)的

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN110337710A

(43)申请公布日

2019.10.15

(21)申请号20188

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