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一种有机小分子插层五氧化二钒材料的制备方法及其应用.pdfVIP

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  • 2023-12-30 发布于四川
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一种有机小分子插层五氧化二钒材料的制备方法及其应用.pdf

    本发明公开了一种有机小分子插层五氧化二钒材料的制备方法及其应用，包括如下步骤：(1)将无机钒源化合物、去离子水和30wt％过氧化氢溶液混合均匀，获得溶液a；(2)将有机小分子与溶剂混合均匀，获得溶液b；(3)将上述溶液a和溶液b混合均匀，于110‑220℃进行溶剂热反应12‑168h；(4)将步骤(3)所得的物料用去离子水和无水乙醇洗涤后烘干，即得。本发明所制备的有机小分子插层五氧化二钒材料，能同时结合无机钒氧化物和有机小分子的优点，能进行阴阳离子存储，多阳离子及阴离子的混合存储，极大地提升电极

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117303441A

    (43)申请公布日2023.12.29

    (21)申请号202311184352.2

    (22)申请日2023.09.14

    (66)本国优先权数据

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