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本发明涉及石英治具技术领域，具体地说，涉及一种常压化学气相沉积用治具及其使用方法；一种常压化学气相沉积用治具，其包括至少一个棱边，设于治具上；治具通过棱边与硅片相接触；一种常压化学气相沉积用治具的使用方法，包括上述的治具；具体包括于膜面接触式设备中固定安装治具；于膜面接触式设备中放置硅片；通过机械手将硅片放置于治具上，使治具通过棱边接触硅片；通过托盘真空吸附硅片，并基于化学气相沉积方法，于硅片上淀积SiO2薄膜；本申请改善了硅片与石英治具接触导致的色差问题；提高了硅片的质量，减少外延自掺杂现象对
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117305814A
(43)申请公布日2023.12.29
(21)申请号202311227114.5
(22)申请日2023.09.22
(71)申请人上海中欣晶圆半导体科技有限公司
地
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