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本发明公开了一种适用于TFTLCD显示装置的膜层制备方法，包括IslandLayer制备和SDLayer制备，使用两张Mask，工艺上采用不同的光积量，使不同的图形得到不一样的曝光度，实现光刻胶不同曝光度的需求。相较于现有技术，本发明提出通过两张普通Mask等同HalftoneMask实现减少制程的目的，使两个膜层只用一道黄光制程完成，即一次涂胶、两次曝光、一次显影制程；相较于现有技术，本发明由工艺控制光积量，两张Mask采用不同的光积量，使不同的图形得到不一样的曝光度，实现光刻胶不同曝
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117331258A
(43)申请公布日2024.01.02
(21)申请号202311051474.4
(22)申请日2023.08.21
(71)申请人信利半导体有限公司
地址516
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