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本发明公开了一种等离子体氧化‑还原原位去除青铜器表面氯离子的方法,其首先利用等离子体氧化技术对青铜器进行氧化处理,在青铜器表面形成氧化层,然后再利用等离子体还原技术将青铜器表面的氧化层还原为金属铜,达到等离子体氧化‑还原去除青铜器表面氯离子,实现稳定青铜器的目的。本发明的方法适用于多种青铜器的保护和修复,较常规的化学处理方法具有非接触、无腐蚀、高效、环保等优点,是一种非常有前景的青铜器保护技术。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117328075A
(43)申请公布日2024.01.02
(21)申请号202311075198.5
(22)申请日2023.08.25
(71)申请人中国科学院合肥物质科学研究院
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