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2024-01-03 发布于四川
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一种MEMS微镜阵列制备方法.pdf

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本发明涉及一种新型的MEMS微镜阵列加工方法，包括：在第一基底表面沉积金属薄膜；完成第一寻址电极和第二寻址电极的制备；选取第二基底，去除表面存在的灰尘和有机物残留物；在第二基底上完成锚点、扭转支点的制备；继续刻蚀扭转支点，使其表面低于所述锚点，形成锚点和扭转支点的高度差；将第一基底和所述第二基底进行键合；在减薄后的第二基底上形成金属反射层；完成微镜结构的制作；将所述扭转支点下方的胶粘键合层去除，完成分立镜面的结构释放；本发明解决了MEMS微镜阵列制备过程中扭转支点与其下方基底键合粘连失效和减薄外

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117326521A

(43)申请公布日2024.01.02

(21)申请号202311120416.2

(22)申请日2023.09.01

(71)申请人西北工业大学宁波研究院

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