2024年清溢光电分析报告：面板掩膜版国产替换进行时，扩产半导体打开成长空间.pdf

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掩膜版：光刻工艺的关键材料3

平板显示掩膜版：国产替换进行时11

半导体掩膜版：本土晶圆厂扩产提升替代空间17

公司基本资料23

业务介绍23

财务数据25

发展历程股权结构27

掩膜版：光刻工艺的关键材料

掩膜版（Photomask）又称光罩，是微电子加工技术常用的光刻工艺所使用的图

形母版，功能类似于传统照相机的“底片”，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信

息的载体，广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。以TFT-LCD制造