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本发明基于电致变色材料技术,具体涉及一种电致可见‑红外响应超表面薄膜及其制备方法。制备方法包括以下步骤:分步磁控溅射,在基底上先后沉积导电层、五氧化二钽、氧化钨薄膜,形成器件底部电极、介质层、电致变色层;基于掩模版对薄膜进行涂胶‑光刻工艺,以氩离子束刻蚀电致变色层,实现超表面图案制备;在空气氛围下对薄膜进行退火工艺,使氧化钨层结晶。本发明具有良好的可见‑红外兼容响应性能,同时实现可见变色与红外波段(2.5~15μm)高变发射率。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117344276A
(43)申请公布日2024.01.05
(21)申请号202311316943.0G02F1/1523(2019.01)
(22)申请日2023.10
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