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2024-01-06 发布于四川
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一种光刻机版图对位标记方法。涉及半导体加工技术。包括以下步骤：步骤100，佳能步进式光刻机用光刻版的对位标记设计步骤，在十字街区放置对位图形一，作为套准图形;放置对位图形二，作为识别的唯一标记；步骤200，按扫描式光刻机的光刻版上的对位标记设计步骤，在十字街区放置对位图形三，作为对位图形一的套准图形；步骤300，产品流片，使用步进式光刻机作业前层图形，经过刻蚀后，在晶圆表面形成器件沟槽和对位图形一和二；步骤400，将对位标记三同晶圆上的对位标记进行套准。本发明便于作业员的操作，以及实现产品套准偏

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117348363A

(43)申请公布日2024.01.05

(21)申请号202311318345.7

(22)申请日2023.10.12

(71)申请人扬州扬杰电子科技股份有限公司

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