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一种掩模图形优化提取方法、装置及计算机设备.pdf

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    本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种掩模图形优化提取方法、装置及计算机设备。本发明提供的方法包括以下步骤：获取设计图形的轮廓边信息；基于轮廓边信息获取预打断位置，并基于预打断位置对轮廓边进行第一次打断以获得若干第一线段；对第一线段进行第二次打断以获得第二线段，并于第二线段上设置评价点，以使每条第一线段上至少设置一个评价点；获取设计图形对应的光刻胶图形的轮廓；计算每条第一线段上的评价点至光刻胶轮廓的平均距离；第一线段分别基于其对应的平均距离进行移动以提取掩模图形。解决了现有技术存在提取掩模图形

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117350997A

    (43)申请公布日2024.01.05

    (21)申请号202311485010.4

    (22)申请日2023.11.08

    (71)申请人深圳晶源信息技术有限公司

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