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光刻与刻蚀工艺流程课件RESUMEREPORTCATALOGDATEANALYSISSUMMARY
目录CONTENTS光刻工艺简介刻蚀工艺简介光刻与刻蚀工艺流程光刻与刻蚀工艺中的问题与对策光刻与刻蚀工艺的发展趋势
REPORTCATALOGDATEANALYSISSUMMARYRESUME01光刻工艺简介
0102光刻工艺的定义它利用光敏材料在硅片表面形成图像，通过曝光和显影等步骤将图像转移到硅片表面，从而实现电路图形的转移。光刻工艺是一种将设计好的图案转移到硅片表面的技术，是集成电路制造中的关键环节之一。
光刻工艺的原理光刻工艺的原理基于光的干涉和衍射原理，通过控制光的波长、角度和曝光时间
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