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等离子体处理装置和等离子体处理方法.pdfVIP

等离子体处理装置和等离子体处理方法.pdf

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    本公开提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法，即使在划分壁上沉积膜也能够维持放电。本公开的一个方式的等离子体处理装置具备：处理容器，在所述处理容器的侧壁具有开口；划分壁，其覆盖所述开口，并且形成与所述处理容器的内部连通的内部空间；以及内部电极，其贯通所述划分壁气密地插入到所述内部空间，所述内部电极被供给RF电力，其中，在所述划分壁与所述内部电极之间设置有第一间隙。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117373888A

    (43)申请公布日2024.01.09

    (21)申请号202310763833.2

    (22)申请日2023.06.27

    (30)优先权数据

    2022-109299202

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