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本发明公开了一种涂层装置及卷绕真空镀膜系统，涂层装置包括至少一个镀膜模块；镀膜模块包括膜传动单元和至少一个镀膜单元，每个镀膜单元包括壳体、至少两个镀膜辊和多个溅射机构，膜传动单元用于使膜层移至任一个镀膜辊上；镀膜辊与壳体连接，壳体围绕形成镀膜室，一个镀膜室内设有至少两个镀膜辊，且溅射机构位于镀膜室内，每个镀膜辊与至少一个溅射机构对应设置；每个溅射机构包括溅射阴极和阳极，溅射阴极和阳极形成电场，使得靶材产生溅射并在膜层上沉积一次。在对薄膜进行磁控溅射镀膜时，针对不同的镀膜厚度需求配置不同的镀膜模块
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117364050A
(43)申请公布日2024.01.09
(21)申请号202311292324.2
(22)申请日2023.09.28
(71)申请人深圳后浪实验室科技有限公司
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