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本实用新型公开了一种陶瓷阀片下料装置，包括输料组件、下料滑道和盛料容器，输料组件和下料滑道用于沿水平方向分别布设于抛光工位的相对两侧，输料组件用于向抛光工位内的物料施加作用力以将物料输送至下料滑道内，下料滑道上沿远离输料组件的方向向下倾斜布设用于在接收物料后使物料下滑到盛料容器内，盛料容器布设于下料滑道的出料端的下方。此外，本实用新型还公开了一种包括上述陶瓷阀片下料装置的陶瓷阀片抛光机。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220313001U
(45)授权公告日2024.01.09
(21)申请号202321954762.6
(22)申请日2023.07.24
(73)专利权人贵州新园特种陶瓷科技有限公司
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